.

(2). 位置与功能的关系:
具备一定形态结构的物体只有在恰当的位置才能发挥出所具有的功能



(3). 修复体的形态、位置是制作人员在修复体设计和制作过程中时刻需要考虑的问题 .
活动义齿支架必须具有完美的形态和准确的位置，才能满足患者在功能、美观、舒适等方面的需求.
活动义齿支架在制作中的设计错误几乎都可以归结为义齿各组成部分在形态和位置方面的设计错误.
下面将就活动义齿支架在制作中的一些常见设计错误和大家进行一下探讨:

(5).基本原理:

 

(8).RPI:

(9).模型观测与设计附件：

a、分析杆 b、倒凹规（0.25mm,0.5mm,0.75mm) c、加强鞘 d、铅芯 e、角度规（2度，6度） f、削蜡器 模型观测仪.

1).确定共同就位道:

2).描记基牙与组织的观测线和填倒线:

3).用倒凹规确定卡环位置:

4).标记模型在观测仪上的位置:

5).绘出设计图形:

6).用蜡填除倒凹:

7).固位体形态:

[二].大连接体的常见设计错误：大连接体的边缘覆盖、压迫牙龈或者离牙龈位置过近

(2)牙龈组织必须有充分的表面血液供应才能保持健康，所以上腭大连接体的边缘应离开龈缘至少6mm，并应与游离龈缘的平均曲线平行

(3)下颌舌杆上缘应位于龈缘下至少4mm

(4)尽量采用避让牙龈的设计

(5)对余留天然牙、软硬组织唇、舌侧倒凹的不当处置

(6)对于余留天然牙、软硬组织唇、舌侧倒凹应尽量采取避让的原则，而不能轻易进行填除、覆盖

(7)上颌大连接体在腭皱处的错误缓冲

(8)腭板前部应尽量模仿腭皱形态 腭板大体上不改变上腭穹隆的自然外形

(9)连接体和支持组织的密切接触非常有助于义齿的支持、稳定和固位，除上腭隆突和隆起的上腭中缝处以外，上腭连接体通常不需要也不希望缓冲
前部宽腭杆或腭板的前缘位置、形态不正确

前部宽腭杆或腭板的前缘应尽量靠后，充分利用口内天然间隙，避免在腭皱区与舌干扰
前部宽腭杆或腭板薄而均匀,截面呈带状，而不是半椭圆形
前缘应与腭皱形态一致，连结体的边缘应尽量避免横跨腭皱

(10)上颌大连接体类型的选择错误与上颌大连接体基本类型：单腭杆、单个宽腭杆、Ｕ型连接体、前后腭杆联合、前后宽腭杆联合、腭板

(11)单腭杆的广泛运用单腭杆与宽腭杆的区别：腭杆的宽度小于8mm，单腭杆要有足够的强度来跨牙弓分布应力，必须有一定的体积。从技术上来说是正确的，但它改变了上腭的形态，影响患者的舒适，这一点在设计中常常被忽略,应尽量用宽腭杆来代替单腭杆的运用

3)、为了增强坚固性，常导致连接体过厚，干扰舌运动
许多上颌局部义齿的失败都是因为u 型连接体不够坚固。厚度不足会导致开放端活动，没有后部基牙支持的游离端局部义齿，连接体末端活动明显损害牙槽嵴
厚度过厚，不易被患者接受（舌体需要自由活动的位置）
u型连接体边缘过于接近甚至接触牙龈组织，易导致余留牙牙龈炎症和牙周损伤不能使用应力中断装置



(13)只有存在无法手术切除的过大上腭隆突，并且有时要修复上前牙时，才不得不使用u 型连接体

(14)上颌大连接体横跨中线时的不恰当方式

(15)上颌大连接体应该成直角而不是斜角跨过中线。因为舌体是双侧器官，更容易接受对称放置的结构

[三].上颌模型刻线:是指在上颌工作模型上除腭皱区以外的大连接体外形线处刻一条浅沟。目的:

1)、将大连接体设计转移到耐火模型上
2)、清楚显示模型终止线
3)、保证大连接体与相应的上腭组织密切接触
要求：沟的深度和宽度不超过0.5mm

(2)舌杆形态、位置设计错误：
1)、舌杆矢状截面形态错误(半圆、椭圆、三角形、带状等）
2)、舌杆位置过低或过高
3)、舌杆边缘锋利
舌杆矢状截面应为半梨形，上缘薄，向组织移行，下缘厚而圆钝
舌杆的位置以不影响口底软组织的活动为原则，越低越好

(3)舌杆距离龈缘的最小距离应大于3mm,完成后的舌杆垂直高度应大于3mm
舌杆组织面缓冲

(4)舌板形态设计要求：
1)、舌板应尽可能薄，并与牙齿和外展隙的形态一致，尽量让患者感觉不到厚度的增加和外形的改变
2)、舌板上缘应与牙齿舌隆突上方表面的自然曲度一致，除覆盖邻间隙至接触点外，不应超过舌面中1/3以上
3)、舌杆的半梨形始终存在，使得舌板的下缘最厚

(5)严重违反原则的大连接体设计

(6)小连接体设计的常见错误
1)、小连接体过于粗大
2)、小连接体伸入倒凹区
3)、覆盖牙龈组织过多
4).小连接体为了避免过于粗大可以采用v形结构（即类似“角钢”结构）

(7)与基牙轴面接触的小连接体不应置于凸面上，应位于外展隙内，尽量使舌体感觉不到
尽量少覆盖牙龈组织
小连接体应位于外展隙的非倒凹区